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      鍍鉻的一些知識

      更新時間:2025-08-04      瀏覽次數:432

      6.1. 鉻的性質

              (1) 色澤 : 銀白色,略帶藍色。

              (2) 原子量 : 51.996 。

              (3) 比重 : 7.2。

              (4) 熔點 : 1900 。C

              (5) 硬度 : 800~10OOHB 。

              (6) 標準電位 : 為一0.71 伏特。

              (7) 在潮濕大氣中很安定,能長久保持顏色。

              (8) 硝酸,硫化物,碳酸塭及有機酸中很安定。

              (9) 易溶于塭酸及熱濃硫酸。

             (10)苛性鈉溶液中鉻陽極易溶解。

             (11)鉻鍍層耐熱性佳,在480"C以下不變色,50O ℃以上才開始氧化,700"C則硬度下降。

             (12)鉻鍍層優點為硬度高、耐磨性好、光反射性強。

             (13)鉻鍍層缺點為太硬易脆、易脫落。

             (14)鉻的電位比鐵負,鋼鐵鍍鉻是屬于陽極性保護鍍層,而鉻本身于大氣中易形成極薄的鈍態膜所以耐腐蝕

            (15)鉻鍍層具多孔性,所以對鋼鐵腐蝕性不很稱心,所以一般先鍍銅,再鍍鎳最后再鍍一層鉻才能達到防腐蝕及裝飾的目的

            (16)鉻鍍層廣泛應用在提高零件之耐腐蝕性、耐磨性、尺寸修補、反射光,及裝飾等用途.

      6.2 鉻電鍍之種類

             1.傳統式鉻酸鍍鉻。

             2.催化物鉻酸鍍鉻。

             3.自動催化鉻酸鍍鉻。

             5.熙色鉻簞鍍。

             6.滾桶鍍鉻‥

             7.多孔鉻電鍍‥

             8.微裂鉻電鍍‥

             9.無裂鉻電鍍

      6.3 鍍鉻之特性

                (1)須嚴格控制浴溫、電流密度、極距等操作條件

               (2)均一性差,對復雜形狀鍍件需適當處理。

               (3)電流效率很低,須較大電流密度。

               (4)陽極采用不溶解性陽極,鉻須用鉻酸補充。

               (5)電鍍過程中不許中斷

               (6)形狀不同鍍件不宜同槽處理,須用不同的掛具‥

               (7)鍍件預熱與浴溫一致,附著性才會好。

               (8)鍍件要有效活化,要帶電入槽,附著性才艮好‥

               (9)需用沖擊電流(大于正常50-100% ) 在開始電鍍較復雜形狀鍍件2-3分鐘而后慢慢降至正常電流密度范圍內

      6.4 鍍鉻之影響因素

               (l) CrO3濃度與導電度關系

               (2) 溫度興導電度之關系

               (3) CrO3濃度與電流效率之關系

               (4) 硫酸濃度之影響濃度低時低電流密度下電流效率高反之電流效率低

              (5) 三價鉻的影響

                      1. 三價鉻很少時,沈積速率減媛。

                      2. 三價鉻很高時,鍍層變暗。

                      3. 三價鉻增加,則導電度降低,需較大電壓

                      4. 三價鉻愈多,光澤范圍愈小。

              (6) 電流密度及溫度的影向

                     1. 鍍浴溫度升高,電流效率降低。

                     2. 電流密度愈高,電流效率愈高。

                     3. 高電流密度,低溫則鍍層灰暗,硬度高脆性大,結晶粗大‥

                     4. 高溫而低電流密度,鍍層硬度小,呈乳白色,延性好,無網狀裂紋,結晶細致,適合裝飾性的鍍件

                     5. 中等溫度及中等電流密度,鍍層硬度高,有密集的網狀裂紋,光亮硬質鉻鍍層。

               (7)雜質的影響

                     1. 鐵雜質,電解液不穩定,光澤鍍層范圍縮小,導電性變差,電壓須增高去除鐵雜質比三價鉻還困難要盡量防止鐵污染不要超過10g/l

                    2. 銅、鋅雜質,含量低時,對鍍層影向不大,銅更好不要大于3g/l

                    3. 硝酸,是鍍鉻很有害的雜質,鍍浴須嚴禁帶入硝酸污染‥

              (8) 陽極及電流分布之影響

                      1. 陽極較大,電流分布較不均勻使鍍層厚度不均勺‥

                      2. 陽極面積大,三價鉻形成較多。

                      3.復雜鍍件,陽極宜用象形電極或輔助電極,使電流分布均勻。

                      4.陽極的鉛易氧化,形成黑色的氧化鉛及黃色的過氧化鉛。過氧化鉛導電性不良應立刻除去

                      5.電流因jian端及邊緣效應,造成鍍層厚度不均,可采用絕緣物遮蓋jian端或邊緣

      6.5 鍍鉻之掛架(Rack)

      鍍鉻其鍍浴均一性極差,電流效率很低,須使用較高電流密度,所以掛架之設計要求對鍍鉻質量影響很大其設計要點如下

               (l) 安定不溶解。

               (2) 導電順利不發熟,需足夠截面積。

               (3) 與鍍件接觸良好。

               (4) 結構以焊接方式,導電鉤要彎成直角

               (5) 非電鍍部份要用絕緣物覆蓋,以減少電流消耗。

               (6) 結構要簡單、易制造、輕便。

               (7) 鍍件放置位置要使氣體自由逸出容易。

               (8) 應用輔助電極、雙極電極。

               (9) 依鍍件的形狀、尺寸、數量及鍍層用途等因素決定掛架之設計

      6.6 鍍鉻之缺陷及其原因

              (l) 鍍層粗糙有顆粒

                        1. 電流太大。

                        2. 陰極保護不當或末裝。

                        3. 陰陽極太近。

                        4. 表面前處理不好,

                        5. 鍍浴有浮懸雜質,

                        6.硫酸太少。

              (2)鍍層脫落

                        1. 前處理不良。

                        2. 中途斷電。

                        3. 中途加冷水。

                        4. 預熱不夠。

              (3) 局部無鍍層

                         1. 電流太小。

                         2. 鍍件互相遮蓋。

                         3. 裝掛不當,氣體停滯。

              (4) 鍍層不均勻

                         1 掛具接觸不良。

                         2 氣體不易逸出。

                         3 陽極型狀不當

              (5) 沈積速度慢

                         1. 電流太小。

                         2. 三價鉻太小。

                         3. 二極間距太大。

                         4. 鍍件過大。

                         5. 槽內鍍件過多。

              (6) 鍍層暗色

                         1. 溫度太低。

                         2. 硫酸此例太少。

                         3. 三價鉻太多。

              (7) 鍍層針孔

                        1. 前處理不佳。

                        2. 氣體停滯鍍件表面上。

                        3. 鍍件被磁化。

                        4. 浮懸雜質。

                        5. 表面活性劑。

                        6. 鍍浴有磁性粒子。

      6.7 三價鉻電鍍

                             三價銘的電鍍歷史此六價鉻久,其特點是只要六價鉻所需的電流一半電流效率較高廢液毒性小處理容易但所用化學品昂貴所以一直沒有被廣泛采用三價鉻電鍍一直積極地被研究目前已有些zhuan利及傷業配力公開發行,其中特點在良好的被覆性及低鉻濃度,使廢液處理的問題減小。詳細資料由廠商提供,三價鉻電鍍的主要困難之一是六價鉻會在鍍浴陽極形成,有zhuan利配方可以防止或還元六價鉻。

      6.8 鍍鉻之管理與維護

      (1) 每 天

             1. 將鍍槽添滿鍍浴。 .

             2. 用低壓空氣有效攪拌鍍液。

             3. 檢查溫度控制器,綢整溫度于正常范圍內‥

             4. 檢查掛架并修護之。

             5. 用最大寧流15堊J30分鐘做凈化罔解處理‥

             6. 哈氏槽試驗。

      (2) 每 周

             1. 蒸發濃縮回收鉻鍍液倒回鍍槽內。

             2. 檢驗催化劑含量并補充需要。

      (3) 每 月

             1. 檢查鍍浴金屏雜質(Zn 、Fe 、Cu 、Nj ) ‥

             2. 清潔及整理陽極。

             3. 檢查三價鉻含量。

      (4) 每 年

             1. 檢查安培計及安培小時計。

             2. 檢查及校正溫度控制器。

             3. 清潔及修理所有槽外設施。

             4. 整修通風罩、輸送管路。

             5. 鍍液出清,去除積泥,清潔、檢查及修理鍍槽、加熱管及導電棒頭。陽極整理及更換。

      6.9 鍍鉻的氫脆性

      鍍鉻的電流效率非常低,所以產生大量的氫氣,會引起氫脆,尤其是硬化鋼、高強度鋼更需注意,氫脆性增加的因素有

             (1) 鋼鐵之硬化處理。          (4) 酸浸。

             (2) 研磨 。                             (5) 硬化厚度與鍍層厚度‥

             (3) 表面缺陷。

      去除氫脆方法有 :

             (l) 鍍前先做應力消除(stress relieving) : 鍍鉻表面需要沒有應力存在,一般鍍件經機械加工、研磨,或硬化熱處理都有殘留應力(residual stre6s) , 可加熱 150至230"C消除殘留應力。

             (2) 鍍后烘焙(baking) : 可依照規范QQ-C-320B及Mil-S-13165 處理。

      6.10 鍍鉻之回收及廢物虛理

                鉻酸廢液可用回收法或消毀( destroy )法處理,其選擇因素有 :

             (1) 投資金額。              (6) 廠液童。 '

              (2) 人工及維護成本。        (7) 鉻酸之價格。

              (3) 化學品價格。            (8) 水費‥

              (4) 空間。                  (9)環境保護之規范‥

              (5) 公共設備成本。

      更好是減少廢液生成,其方法有 :

              (1) 盡量滴干。               (4) 回收洗凈水。

              (2) 應用滴干囤收槽。          (5) 控制水的帶入(drag-in),

              (3) 掛架避免使鍍件裝水(cupping action) 。

      6.11  多孔鉻電鍍

                     在二次大戰時,多孔鉻電鍍應用在飛機及引擎的活塞環[piston,rings )及氣缸導管(cylinder bores) 的制造和修補 , 多孔鉻是一般硬鉻鍍層厚度超過0.004" 含有許多的孔(porous) 吸滲潤滑劑,所以可防

             止零件刮傷,引擎過熱而夾死不動(seizing) 及擦傷( galling) 等 ‥多孔鉻的電鍍方法有三種 :

                (I) 在粗糙或刻蝕的基材表面鍍硬鉻。

                (2) 鍍硬鉻后用化學或電化學蝕刻。

                (3) 控制鍍浴的成份及操作條件、溫度


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